투자판단 관련 주요경영사항
| 1. 제목 | 이오나이저를 구비한 이에프이엠챔버(EFEM CHAMBER WITH IONIZER) 특허취득 | |
| 2. 주요내용 | (1) 특허 명칭 : 이오나이저를 구비한 이에프이엠챔버 (2) 특허 주요 내용 : 본 특허는 반도체나 디스플레이 패널 등을 제조하기 위한 기판처리 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 팬필터유닛과 일체화한 제습 유닛과 이오나이저를 구비한 이에프이엠(EFEM)챔버에 관한 것입니다. 챔버내에 제습유닛과 필터유닛을 구비한 EFEM챔버는 청정, 제습공기를 공급할 수 있게 됩니다. 이를 통해 정전기를 제거할 수 있게 되며, 기판 표면에 의도치 않은 반응이 일어나는 것과 파티클이 부착되는 것을 방지할 수 있습니다. 특히, 기존 챔버의 내부에 구비되던 팬필터유닛과 달리 외측에 별도로 구비되던 제습유닛을 챔버 본체 내에 일체화함으로써 설비의 부피가 감소하여 설치 공간이 줄어들고, 제조 원가가 감소되는 효과가 있습니다. 본 특허를 반도체 여러 공정의 EFEM 등 웨이퍼(wafer)를 처리하는 버퍼 공간 내부에 습도를 낮춘 공기를 공급하여, 파티클 및 결함을 방지하고 수율을 향상시킬 수 있도록 한 특허입니다. (3) 특허 취득(등록) 일자 : 2026.01.14 (4) 특허 활용 계획 : 향후 반도체, 디스플레이 클린룸 시장의 다양한 공정에 적용 예정입니다. |
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| 3. 이사회결의일(결정일) 또는 사실확인일 | 2026-01-14 | |
| - 사외이사 참석여부 | 참석(명) | - |
| 불참(명) | - | |
| - 감사(사외이사가 아닌 감사위원) 참석여부 | - | |
| 4. 기타 투자판단과 관련한 중요사항 | ||
| ※ 상기 3. 이사회결의일(결정일) 또는 사실확인일은 특허법인으로부터 특허수수료 납부 확인증 접수일 입니다. | ||
| ※ 관련공시 | - | |