특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 포토레지스트용 폴리머 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물 |
| 2. 특허 주요내용 | 아크릴계 포토레지스트용폴리머 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물로, 포화탄화수소기를 포함하는 환형 알코올 에스테르기가 탈보호되는 반응의 활성화 에너지가 낮아 해상도 및 공정여유도를 개선할 수 있고, 노광 후 베이크 온도 민감도(PEB sensitivity)가 낮기 때문에 정밀한 패턴을 구현할 수 있으며, 초점심도마진 및 라인에지러프니스를 개선할 수 있다. |
| 3. 특허권자 | (주)동진쎄미켐 |
| 4. 특허취득일자 | 2009-03-10 |
| 5. 특허 활용계획 | 반도체용 ArF 및 EUVL Resist 판매 |
| 6. 확인일자 | 2009-04-17 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | 해외특허(미국)임. |