특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 술포닐기를 포함하는 포토레지스트 모노머, 폴리머 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 발명의 목적은 광산발생제(Photo Acid Generator, PAG) 없이도 자외선 광원에 의하여 패턴형성이 가능하 며, 라인에지러프니스를 개선할 수 있는 포토레지스트 모노머, 폴리머 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물 물을 제공하는 것임. |
| 3. 특허권자 | (주)동진쎄미켐 |
| 4. 특허취득일자 | 2009-08-04 |
| 5. 특허 활용계획 | 반도체용 포토레지스트 판매확대 |
| 6. 확인일자 | 2009-10-13 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | 해외특허(미국)임. |