투자판단 관련 주요경영사항
| 1. 제목 | VOC 제거 시스템 및 이의 제어방법(VOC removal system & control method)특허 취득 | |
| 2. 주요내용 | (1) 특허명칭 : VOC 제거 시스템 및 이의 제어방법(VOC removal system & control method) (2) 특허 주요 내용 : 반도체 또는 디스플레이 제조공정, 화학시설 및 도장시설에서 다량의 VOC 발생으로 인하여 이를 처리하기 위해 일반적으로 농축 후 2차 처리 시스템으로 처리하고 있으나, 보조연료 및 배기되는 폐열 등으로 에너지 소비가 큽니다. 따라서 저온 촉매 산화 처리를 적용한 기술과 로터의 열회수 기술을 접목하여 VOC 제거 시스템을 개발 하였습니다. 본 특허는 VOC 제거 시스템 및 이의 제어방법에 관한 건으로 VOCs를 농축하는 로터와 VOCs를 분해하는 촉매 산화기를 포함하고 촉매 산화기의 산화열을 회수하는 시스템과 이를 제어하기 위해 초기 가동 시 촉매 산화기의 온도 예열하는 제어 방법을 포함한 발명입니다. 본 특허는 VOC 시스템의 초기 가동 시 설정한 온도가 촉매 내부에서 도달하여야만 시스템이 가동하는 제어방법을 포함하여 촉매 산화기의 내구성을 향상시킴과 동시에 공기의 VOC 농도값에 따라 팬동력을 조정하여 에너지 소모를 절감할 수 있습니다. (3) 특허권자 : (주)신성이엔지,(주)삼성물산 (본 건은 공동특허로 각각의 특허 지분은 50% 씩 입니다.) (4) 특허취득 일자 : 2022-08-17 (5) 특허활용 계획 : 제조공정에서 발생되는 비산 VOCs 제거 시스템에 적용 및 향후 VOCs 촉매 산화를 포함한 제거 시스템에 촉매를 안정적으로 사용하기 위한 제어 방법을 운전로직에 반영 할 예정입니다. |
|
| 3. 이사회결의일(결정일) 또는 사실확인일 | 2022-08-17 | |
| - 사외이사 참석여부 | 참석(명) | - |
| 불참(명) | - | |
| - 감사(사외이사가 아닌 감사위원) 참석여부 | - | |
| 4. 기타 투자판단과 관련한 중요사항 | ||
| ※ 상기 3. 이사회결의일(결정일) 또는 사실확인일은 특허법인으로부터 특허수수료 납부 확인증 접수일 입니다. | ||
| ※ 관련공시 | - | |

