주요경영사항 신고
| 증권거래법 제186조의 규정에 의하여 당사의 주요경영사항에 대해 다음과 같이 신고ㆍ공시 합니다. |
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| 2008 년 12월 4일 | ||
금융위원회(금융감독원) 귀중 |
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| 회 사 명 : | 주식회사 케이씨텍 | |
| (영문명) | K.C.Tech | |
| (홈페이지) | http://www.kctech.co.kr | |
| 본 점 소 재 지 : | 경기도 안성시 미양면 계륵리 268-1 | |
| (전 화) | 031-670-8900 | |
| 대 표 이 사 : | 이 순 창 | |
| 담 당 임 원 : | (직 책)상 무 | |
| (성 명)김 홍 대 | (전 화)031-670-8100 | |
| 작 성 자 : | (직 책)과 장 | |
| (성 명)임 재 우 | (전 화)031-670-8134 | |
| 제 출 이 유 : | 유가증권의발행및공시등에관한규정 제69조제1항제5호마목에 의한 특허취득 |
| ※ 본 건 금융위원회(금융감독원)에 제출하는 주요경영사항 신고는 증권거래법 제186조, 동법 시행령 제83조 및 유가증권의발행및공시등에관한규정 제69조에 의한 『법정공시사항』 으로 그 내용에 허위, 중요사실의 누락이 있을 경우 증권거래법 제206조의11, 제207조의3에 의거 과징금 부과, 형사처벌 등 제재를 받을 수 있습니다. |
특허취득
| 1. 특허명칭 | 플라즈마 발생장치 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 발명은 소스가스와 반응가스의 선반응을 방지하고, 반응가스의 균일한 분사를 위한 것에 관한 것으로서, 플라즈마 발생부 하부에 위치하며, 플라즈마 이동을 위해 상하를 관통하는 반응가스 분사구를 제공하는 복수개의 유도관, 저면에 형성되어 소스가스를 분사하는 복수개의 소스가스 분사구 및 소스 가스 분사구와 연통하도록 내부에 형성된 소스가스 이동공간을 포함하고, 유도관의 하단은 소스가스 분사구보다 높은위치에 있는 샤워헤드를 포함하는 것을 특징으로 하는 발명임 |
| 3. 특허권자 | 주식회사 케이씨텍 |
| 4. 특허취득일자 | 2008년 12월 03일 |
| 5. 특허 활용계획 | 반도체 Wet 장비에 적용 |
| 6. 확인일자 | 2008년 12월 03일 |
7. 기타 투자판단에 참고할 사항
- 상기 취득일은 특허등록이 완료된 시점임