특허취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 박막증착장치의 분사유닛 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 발명은 소스가스와 반응가스가 반응기 내부에서 혼합되면, 소스가스와 반응 가스의 혼합으로 증착 박막의 품질이 저하되므로 혼합을 예방하기 위하여 독립된 복수개의 가스 공급부 및 유체 격벽을 설치하여 증착 박막의 품질을 향상시키고, 기판을 회전시켜 소스 가스 및 반응가스가 순차적으로 공급되도록 구성되어 있다. 또한 회전속도에 따라 소스 가스 및 반응 가스의 분사 주기를 증가 시키므로 증착 두께 대비 증착시간을 단축시킬 수 있는 효과가 있다. |
| 3. 특허권자 | (주)케이씨텍 |
| 4. 특허취득일자 | 2009-05-29 |
| 5. 특허 활용계획 | 반도체용 차세대 증착장비 제조에 활용 예정 |
| 6. 확인일자 | 2009-05-29 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | 상기 특허취득일자는 특허등록이 완료된 시점임 |