특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 기판처리 장치 및 방법 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 발명은 챔버 내부에 예비적으로 공정 분위기를 조성하고, 상기 챔버 내부에 대상막이 형성된 기판을 인입하며,상기 챔버에 복수의 공정가스들을 제공하여 상기 기판에 형성된 대상막과 반응시키는 메인 공정을 수행하는 장치 및 방법에 관한 것입니다. |
| 3. 특허권자 | 피에스케이(주) |
| 4. 특허취득일자 | 2009-09-02 |
| 5. 특허 활용계획 | 당사의 반도체장비 성능 향상 |
| 6. 확인일자 | 2009-09-02 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | - |