특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 반도체 웨이퍼의 연속 처리방법 |
| 2. 특허 주요내용 | Wafer의 Reflow 처리공정에 대한 특허로서, 공정이 이루어지는 과정에 있어서 각 단계별 특징을 다루고 있으며, 이를통해 공정을 단순화 하고 생산성을 향상시킬 수 있으며 장치비용을 절감할 수 있다 |
| 3. 특허권자 | 주식회사 에스티아이 |
| 4. 특허취득일자 | 2015-02-04 |
| 5. 특허 활용계획 | 본 특허기술은 리플로우 장비에 적용 될 예정입니다. |
| 6. 확인일자 | 2015-02-04 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | 상기 특허취득일자는 특허료 납부 일자입니다. |