특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 패턴 및 엠보가 형성된 광확산 필름의 제조방법 |
| 2. 특허 주요내용 | [발명의 내용] 본 발명은 패턴 및 엠보가 형성된 광확산 필름의 제조방법에 관한 것입니다. [발명의 효과] 1) 본 발명에 따른 패턴 및 엠보가 형성된 광확산 필름의 제조방법은 고효율의 전광선 투과율과 확산율을 나타내며 외부로부터 전달되는 열 및 충격 등에 강한 물성을 갖는 광확산 필름을 제공하는 탁월한 효과가 있습니다. 2) 연속공정에 의한 대량생산이 가능하며, 제조과정에서 이물, 기포, 흑점 및 패턴의 전사율 저하, 두께편차 등이 발생하지 않는 광확산 필름을 제공하는 효과가 있습니다. |
| 3. 특허권자 | 주식회사 에스폴리텍 |
| 4. 특허취득일자 | 2012-04-25 |
| 5. 특허 활용계획 | 상기 특허는 당사의 광확산 필름 제조 공정에 적용할 예정입니다. |
| 6. 확인일자 | 2012-04-25 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | - 상기 특허는 국내특허입니다. - 상기 특허일자 및 확인일자는 등록료 납부일입니다. |