특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 패턴형 도광판의 제조시스템 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 발명은 도광판의 제조시스템에 관한 것으로, 고순도의 PMMA와 광확산제를 사용하여 광학적 특성을 저하하는 이물, 기포, 흑점, 패턴 전사율 저하 및 두께 편차 등의 발생을 해결하여 휘도가 우수하고 균일한 패턴형 도광판의 제조시스템에 관한 것입니다. |
| 3. 특허권자 | 주식회사 에스폴리텍 |
| 4. 특허취득일자 | 2012-11-14 |
| 5. 특허 활용계획 | 상기 특허는 당사의 패턴형 도광판 제조 공정에 적용할 예정입니다. |
| 6. 확인일자 | 2012-11-14 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | - 상기 특허는 국내특허입니다. - 상기 특허일자 및 확인일자는 등록료 납부일입니다. |