특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 패턴화된 투명 도전 필름의 제조 방법 外 2건 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 발명은 패턴형성몰드의 일부 영역을 개방하고 그 측면은 경사진 형태의 패턴형성몰드를 통해 원하는 패턴의 도전막을 형성하는 발명이다. 이를 통해, 인듐주석산화물(ITO) 대신에 나노미터 크기의 탄소나노튜브(CNT), 나노와이어(Nano wire)와 같은 대체소재를 적용함으로써 뛰어난 전도성 및 광학성을 지니는 장점이 있다. 1.패턴화된 투명 도전 필름의 제조 방법(출원번호:10-2010-0114981) -포토레지스트(PR) 패턴을 사용하여 투명 전도성 패턴을 형성 2.패턴화된 투명 도전성 필름의 제조 방법(출원번호:10-2010-0114984) -측면이 경사진 포토레지스트(PR) 패턴을 사용하여 투명 전도성 패턴을 형성 3.패턴화된 투명 도전성 필름의 제조 방법(출원번호:10-2010-0114987) -패터닝된 마스크몰드를 사용하여 주입 혹은 침진방식으로 패턴몰드 내부로 투명 도전체를 주입 |
| 3. 특허권자 | 신화인터텍주식회사 |
| 4. 특허취득일자 | 2012-10-08 |
| 5. 특허 활용계획 | 본 발명은 신성장산업부문인 터치스크린이나 플렉서블 디스플레이 등에 활용되는 기술이다. 당사는 본 기술경쟁력을 활용하여 시장경쟁력우위를 확보할 계획이다. |
| 6. 확인일자 | 2012-10-08 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | - |