특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 반응 챔버 세정 장치 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 발명은 반응 챔버 세정 장치에 대한 것이다. 더욱 상세하게는, 본 발명은 반응 챔버 내에 부착된 이물질을 효과적으로 세정하며 세정시 반응 챔버 내부를 오염시키는 것을 방지하는 반응 챔버 세정 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 반응 챔버 내부에 부착된 이물질을 물리적인 방식으로 세정할 수 있다. 또한, 본 발명에 따르면 반응 챔버의 세정시 발생하는 이물질이 서셉터 등에 낙하하는 것을 차단하여 세정 효과를 극대화할 수 있다. 또한, 본 발명에 따르면, 셔터부가 반응 챙버 내부에서 전개 가능하도록 구성하여 반응 챔버로의 진입구가 좁은 경우에도 셔터부를 반응 챔버 내부로 삽입시킨 후 전개할 수 있도록 하는 이점이 있다. |
| 3. 특허권자 | (주)탑엔지니어링 |
| 4. 특허취득일자 | 2016-05-30 |
| 5. 특허 활용계획 | FPD공정 장비의 경쟁력 강화 |
| 6. 확인일자 | 2016-05-31 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | - |