특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 분산성이 우수한 고굴절 나노졸의 제조방법 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 발명은 수열합성과 수계합성을 이용한 분산성이 좋아 투명성이 높은 고 굴절 무기입자를 함유한 투명 나노 졸의 제조방법에 관한 특허이다. 광학필름 제조시 무기졸을 사용하게 되는데, 입자의 크기가 크면 수지와의 상용성에 문제가 발생하고 광산란 현상이 발생하여, 광학필름에 적용시 문제가 발생한다. 본 특허는 이러한 부분을 개선하고자 10nm이하의 크기로 입자표면에 특성기를 도입, 분산성이 우수하고 투명한 재료를 개발하였다. |
| 3. 특허권자 | 대주전자재료주식회사 |
| 4. 특허취득일자 | 2014-11-28 |
| 5. 특허 활용계획 | 본 발명의 수열합성과 수계합성으로 제조된 고굴절 무기입자가 포함된 나노졸은 분산성이 우수하고, 백탁현상이 없이 투명한 특성을 가지고 있다. 이 무기졸은 입자사이즈가 10nm 수준으로 광산란 현상을 없애주며, 코팅작업성이 우수하고, 굴절율의 제어가 용이하다. 이에 광학필름 및 OLED 등 각종 디스플레이의 광학부품용 코팅제 등에 적용이 가능한 기초적인 고굴절율 재료의 지적재산권을 확보하는 효과를 가져올수 있다. |
| 6. 확인일자 | 2014-11-28 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | -확인일자는 특허청납부료 기준일입니다. |