기타 경영사항(특허권 취득)(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 플라즈마 처리 장치 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 발명은 LCD, OLED의 TFT공정(식각공정)에 사용되는 플라즈마 발생용 안테나를 구성과 관련한 특허임. 플라즈마 발생용 안테나를 구성함에 있어, 서로 다른 방향으로 배치되는 2개의 안테나부가 서로 길이와 가상 평면 사이의 거리를 다르게 형성하여 안테나부의 상부를 따라 흐르는 전류와 하부를 따라 흐르는 전류 상호 간의 영향을 최소화하여, 식각공정의 균일성을 높일 수 있음 |
| 3. 특허권자 | 인베니아 주식회사 |
| 4. 특허취득일자 | 2018-06-04 |
| 5. 특허 활용계획 | OLED 디스플레이에 대응되는 ICP 형식의 식각장비에 적용하여, 기술 경쟁력을 확보하고 매출 증대에 기여할 예정임 |
| 6. 확인일자 | 2018-06-04 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | - 상기 특허취득일자 및 확인일자는 특허등록료 납부일임 -상기 특허는 국내 특허 취득건임(특허출원번호 : 10-2016-0152590) |