특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 복수 챔버 웨이퍼 공급 및 회수장치 (Apparatus for providing and retrieving a wafer in mult-chamber system) |
| 2. 특허 주요내용 | 본 발명은 베이스 프레임의 뒤쪽 영역에 세정 챔버들이 좌우 방향으로 일렬로 배열되고 베이스 프레임의 앞쪽 영역에 카세트 장착유닛들과 웨이퍼 얼라인 유닛과 반전유닛이 좌우 방향으로 일렬로 배열되며 뒤쪽 영역의 세정 챔버들의 열과 앞쪽 영역의 카세트 장착유닛들, 웨이퍼 얼라인유닛, 반전유닛의 열이 서로 평행하고 이송로봇이 그 두개의 열 사이에서 그 두개의 열과 평행하게 직선으로 움직이면서 웨이퍼가 세정되도록 함으로써 이송로봇의 동선이 짧고 프로세스가 효율적으로 이루어져 웨이퍼를 세정하기 위한 공정시간을 단축시키게 된다. 아울려, 구성이 컴팩트 하여 장치 크기를 줄이게 되므로 설치공간을 적게 차지하게 된다. 또한, 본 발명은 웨이퍼를 앞뒤로 뒤집는 반전유닛을 포함하고 있어 웨이퍼의 앞뒤면, 즉 양쪽면을 모두 세정할 수 있게 되므로 구성이 컴팩트 하다. 또한, 본 발명은 웨이퍼 얼라인유닛을 포함하고 있어 세정챔버 내부로 웨이퍼를 삽입하기전 웨이퍼를 설정된 위치로 얼라인한후 세정챔버 내부에 위치시키게 되므로 세정 챔버 내부에서 웨이퍼의 한쪽 전체면이 깨끗하게 세정된다. |
| 3. 특허권자 | (주)로보스타 |
| 4. 특허취득일자 | 2013-11-06 |
| 5. 특허 활용계획 | 1. 웨이퍼 세정공정에 적용 2. 복수 챔버에 웨이퍼를 공급하고 회수하여 공정 시간 단축 3. 웨이퍼 공급 및 회수 구성을 컴팩트하게 하여 설치 공간 최소화 |
| 6. 확인일자 | 2013-11-06 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | 상기 특허의 취득일자는 특허료 납부일자임. |