신규 시설투자 등
| 1. 투자구분 | 시설증설 | |
| 2. 투자내역 | 투자금액(원) | 5,600,000,000 |
| 자기자본(원) | 24,968,926,898 | |
| 자기자본대비(%) | 22.43 | |
| 대규모법인여부 | 코스닥상장법인 | |
| 3. 투자목적 | 반도체용 SiO2 전구체인 DIPAS 생산공장증설을 통한 생산능력 증가 및 매출증대 | |
| 4. 투자기간 | 시작일 | 2012-01-20 |
| 종료일 | 2012-06-30 | |
| 5. 이사회결의일(결정일) | 2012-01-12 | |
| -사외이사 참석여부 | 참석(명) | 1 |
| 불참(명) | 0 | |
| 6. 감사(감사위원) 참석여부 | 참석 | |
| 7. 공시유보 관련내용 | 유보사유 | - |
| 유보기한 | - | |
| 8. 기타 투자판단에 참고할 사항 | * 상기 자기자본은 2010년 12월 31일로 종료되는회계기간의 감사보고서(K-GAAP)상 자본총계 상의 금액임. * 상기 투자금액 및 투자기간은 향후 공사진행 경과 및 경영환경에 따라 변경될 수 있음. * 상기 투자금액은 VAT별도 금액이며, 기취득한 토지(대전시 대덕구 대화동 40 -15)에 건물 및 기계장치를 증설함에 따라 토지 취득관련 비용은 포함되어 있지 않음. * 상기 투자에 필요한 자금은 자체자금 및 금융기관(은행)에서 시설자금 차입으로 자금조달 예정임. |
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