신규 시설투자 등
| 1. 투자구분 | 시설증설 | ||
| - 투자대상 | 반도체 특수가스 생산시설 | ||
| 2. 투자내역 | 투자금액(원) | 55,400,000,000 | |
| 자기자본(원) | 163,378,557,186 | ||
| 자기자본대비(%) | 33.91 | ||
| 대규모법인여부 | 미해당 | ||
| 3. 투자목적 | 전방 반도체 산업의 성장에 따른 수요 증가에 적극적으로 대응하기 위함 | ||
| 4. 투자기간 | 시작일 | 2017-12-01 | |
| 종료일 | 2018-12-31 | ||
| 5. 이사회결의일(결정일) | 2017-11-27 | ||
| - 사외이사 참석여부 | 참석(명) | - | |
| 불참(명) | 1 | ||
| - 감사(사외이사가 아닌 감사위원) 참석여부 | 참석 | ||
| 6. 공시유보 관련내용 | 유보사유 | - | |
| 유보기한 | - | ||
| 7. 기타 투자판단과 관련한 중요사항 | *. 상기 자기자본은 2016.12.31 연결재무제표 기준입니다. *. 자금조달의 원천은 내부유보자금, 시설 차입금등 으로 이루어질 예정입니다. *. 투자금액과 투자기간, 자금조달의 원천 등은 향후 추진과정에서 변동 될 수 있습니다. *. 본 결의는 전방 반도체 산업의 성장에 적극적으로 대응하여 고객 니즈를 충족하고, 당사 매출 및 이익 증대를 통해 주주가치를 극대화하기 위함입니다. |
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| ※ 관련공시 | - | ||