특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 대표 지문 템플릿 생성 장치 및 방법 |
| 2. 특허 주요내용 | 지문 인식 성능 향상을 위해 다수의 지문 템플릿으로부터 고품질의 대표 지문 템플릿을 생성하는 장치 및 방법 |
| 3. 특허권자 | 주식회사 슈프리마 |
| 4. 특허취득일자 | 2013-11-13 |
| 5. 특허 활용계획 | 지문 상태의 변화, 사용 환경의 변화 및 대용량 사용자 검색과 같은 한계 상황에서 인식 성능을 대폭 개선할 수 있음. 본 기술은 당사의 지문인식 응용 전제품에 적용할 예정이며 지문인식 시스템의 성능 개선을 통해 그 활용도를 더욱 높일 수 있을 것으로 기대됨. |
| 6. 확인일자 | 2013-11-13 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | - 상기 특허는 해외(미국) 특허입니다. - 상기 특허는 2013년 04월 03일 국내에 등록완료된 특허입니다. - 상기 특허취득일자 및 확인일자는 등록료 납부일입니다. |