특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 다중 노출을 이용한 광학식 지문 인식 방법 및 장치 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 발명은 지문 인식 센서 정밀 제어를 기반으로 다중 노출 촬영을 실시하여 직사 광선 등 강한 외부광 환경에서도 인증 성능이나 지문 품질 저하 없이 깨끗한 영상을 찍을 수 있게 하는 기술입니다. |
| 3. 특허권자 | 주식회사 슈프리마 |
| 4. 특허취득일자 | 2014-09-18 |
| 5. 특허 활용계획 | 당사 기존 모델인 BioMini Slim 및 Combo 제품에 적용되고 있으며, SFM 등 지문인식 모듈에도 확대 적용할 예정입니다. |
| 6. 확인일자 | 2014-09-18 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | - 상기 특허취득일자 및 확인일자는 등록료 납부일입니다. |