특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 다중 노출을 이용한 광학식 지문 인식 방법 및 장치 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 특허는 지문 인식 센서 정밀 제어를 기반으로 다중 노출(스캔) 촬영을 실시하여 100,000 Lux 이상의 외부광 조건하에서 고품질의 지문 영상을 얻을 수 있는 것은 물론, 광학식 지문인식기에서 획득이 어려운 건조 지문에 대해서도 기존보다 향상된 수준의 지문 품질을 확보할 수 있도록 하는 기술에 관한 것입니다. |
| 3. 특허권자 | 주식회사 슈프리마 |
| 4. 특허취득일자 | 2015-09-09 |
| 5. 특허 활용계획 | 본 특허 기술은 자사의 BioMini Slim/Combo 제품에 이미 탑재되어 있으며, SFM 등 지문인식 모듈에도 확대 적용될 예정입니다. |
| 6. 확인일자 | 2015-09-09 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | - 상기 특허는 해외(미국)특허입니다. - 상기 특허취득일자 및 확인일자는 등록료 납부일입니다. |