특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 와이어 그리드 편광자의 제조 방법 |
| 2. 특허 주요내용 | 나노 구조물을 형성한 기판 전면에 금속막을 증착하여 그 내부에 면경계가 형성되도록 하고, 면경계를 식각에 이용하므로써 효율적으로 금속 나노 와이어 그리드를 형성하는 와이어 그리드 편광자(DBEF 대체품) 제조 방법에 관한 것 입니다. |
| 3. 특허권자 | 미래나노텍 주식회사 |
| 4. 특허취득일자 | 2009-10-09 |
| 5. 특허 활용계획 | 종래의 와이어 그리드 편광자 제조는 포토리소그라피 공정과 함께 반응이온 식각공정을 포함하고 있기 때문에, 고가의 반도체 제조 장비 및 나노 패터닝 장비 등을 사용해야 하고 복잡한 공정이 필요한 문제점이 있었습니다. 본 발명은 나노 와이어 그리드 형성을 획기적으로 단순화시키는 것으로써, 종례의 문제점을 극복하여 품질과 생산성을 향상시키고 제조 단가를 절감시킬 것으로 기대됩니다. 또한 본 발명의 등록으로 당사가 보유한 나노와이어 그리드 편장자 제조 기술개발능력을 대내외적으로 인정받고, 이 제조 기술에 대한 독점배타적인 권리를 확보함에 따라 향후 편광자 광학시트 사업부문에서 당사의 경쟁력을 더욱 확보할 것으로 예상됩니다. |
| 6. 확인일자 | 2009-10-09 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | - |