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미래나노텍(주) 신규시설투자등

미래나노텍 · 2012-10-25 10:53 · KOSCOM

신규 시설투자 등
1. 투자구분 공장 신축(4공장)
2. 투자내역 투자금액(원) 26,000,000,000
자기자본(원) 175,822,693,111
자기자본대비(%) 14.79
대규모법인여부 코스닥상장법인
3. 투자목적 지속성장 가능한 사업 포트폴리오 구축을 위한
대형 터치패널 등 신사업 CAPA 확보
4. 투자기간 시작일 2012-10-25
종료일 2013-03-31
5. 이사회결의일(결정일) 2012-10-25
-사외이사 참석여부 참석(명) 1
불참(명) 0
6. 감사(감사위원) 참석여부 참석
7. 공시유보 관련내용 유보사유 -
유보기한 -
8. 기타 투자판단에 참고할 사항 1) 상기 자기자본은 2011년말(K-IFRS) 기준임.

2) 신축장소 : 미래나노텍(주) 본사(충북 청원군) 부지 內 건축면적 3만3천㎡(1만평)규모 4공장 신축

3) 상기 투자금액은 4공장 총 공사비 390억 중 1단계 260억원 한도내 투자승인임.

4) 상기 투자기간은 공사진행 경과에 따라 변경될 수 있음.

5) 상기 투자금액은 저리 은행차입을 통해 조달할 예정임.

거래소·금융감독원 공시를 네이버 증권을 통해 가져온 내용입니다. 표시가 원문과 다를 수 있으니 중요한 판단 전에는 원문 공시를 확인하세요.

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