기타 경영사항(특허권 취득)(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 기판처리장치 |
| 2. 특허 주요내용 | 상기 특허는 디스플레이(OLED) 장비에 적용되는 기술임 본 특허에 의하면, 일부 가스만을 선별하여 가열할 수 있어 자유롭게 공정 조건을 수립할 수 있고 가스를 빠르게 공급하거나 냉각시킬 수 있어 부산물을 효과적으로 제거할 수 있음. 또한, 가스 가열부가 챔버 외부에 위치함으로써 가열부의 유지보수에 소요되는 시간을 줄임으로써 생산성(throughput)을 향상시킬 수 있으며, 상대적으로 적은 비용 및 에너지 소비로 가스를 가열하여 공급할 수 있음. |
| 3. 특허권자 | 주식회사 테스 |
| 4. 특허취득일자 | 2017-12-28 |
| 5. 특허 활용계획 | 상기 특허와 관련된 기술을 디스플레이(OLED) 장비에 적용하고 R&D활동에도 응용하여 제품경쟁력 강화에 활용할 계획임. |
| 6. 확인일자 | 2017-12-28 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | 1. 출원번호(국내) : 제10-2016-0061304 2. 상기 특허취득일자 및 확인일자는 특허 수수료 납부일자 기준임. |