기타 경영사항(특허권 취득)(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 기판처리장치 |
| 2. 특허 주요내용 | 상기 특허는 반도체 장비에 적용되는 기술임. 본 특허에 따르면, 히터의 열선 패턴이 기판의 박막에 전사되는 등의 히터의 온도 프로파일에 의한 영향을 방지할 수 있으며, 기판지지링 내로 퍼지가스를 공급하여 반응가스가 기판의 이면에 부착되어 기판 이면이 오염되는 것을 방지할 수 있음. |
| 3. 특허권자 | 주식회사 테스 |
| 4. 특허취득일자 | 2018-10-31 |
| 5. 특허 활용계획 | 장비 제조시 특허기술 적용을 통한 제품경쟁력 강화 |
| 6. 확인일자 | 2018-10-31 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | 1. 출원번호(국내) : 제10-2012-0035522 2. 상기 특허취득일자 및 확인일자는 특허 수수료 납부일자 기준임. |