기타 경영사항(특허권 취득)(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 기판처리장치 및 그 세정방법 |
| 2. 특허 주요내용 | 상기 특허는 반도체 장비에 적용되는 기술임. 본 특허에 따르면, 챔버의 내부에 별도의 반응공간을 구비하고 상기 반응공간에서 상부를 향해 배기통로가 형성된 경우에 상기 배기통로 상에 누적될 수 있는 파티클 소스 등을 용이하게 제거할 수 있고, 챔버의 내측에 쌓일 수 있는 이물질 등의 파티클 소스를 제거할 수 있음. |
| 3. 특허권자 | 주식회사 테스 |
| 4. 특허취득일자 | 2019-04-01 |
| 5. 특허 활용계획 | 장비 제조시 특허기술 적용을 통한 제품경쟁력 강화 |
| 6. 확인일자 | 2019-04-01 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | 1. 출원번호(국내) : 제10-2017-0109491 2. 상기 특허취득일자 및 확인일자는 특허 수수료 납부일자 기준임. |