특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 하프톤형 위상반전 블랭크 마스크 및 그의 제조방법 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 발명은 반도체 제조에 사용되는 하프톤형 위상반전 블랭크 마스크에 관한 것으로써, 마스크상에 발생할 수 있는 성장성 결함인 Haze 발생을 최소화할 수 있는 하프톤형 블랭크 마스크 및 그의 제조 방법에 관한 것이며, 이를 통해 생산성 향상 및 고품질의 하프톤형 위상반전 블랭크 마스크를 제공할 수 있음. |
| 3. 특허권자 | 주식회사 에스앤에스텍 |
| 4. 특허취득일자 | 2009-08-21 |
| 5. 특허 활용계획 | 본 특허기술을 하프톤형 위상반전 블랭크 마스크 제조에 적용함으로써, 하프톤형 위상반전 블랭크 마스크 제품의 기술경쟁력을 향상시킬 예정임. |
| 6. 확인일자 | 2009-08-21 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | 상기 확인일자는 특허등록료 납부 완료 일자임. |