특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 블랭크 마스크, 포토마스크 및 이의 제조 방법 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 발명은 하드마스크막을 적용하여 포토마스크의 단독패턴과 조밀패턴 간 크기 차이가 발생하는 로딩 효과를 감소시킴으로써, 45nm급 이하의 고품질의 포토마스크 제작을 가능하게 하는 블랭크 마스크 및 포토마스크와 그 제조방법에 관한 것임. |
| 3. 특허권자 | 주식회사 에스앤에스텍 |
| 4. 특허취득일자 | 2010-03-15 |
| 5. 특허 활용계획 | 본 특허기술을 블랭크 마스크 제조에 적용함으로써, High-End급의 블랭크 마스크 제품의 기술경쟁력을 향상시킬 예정임. |
| 6. 확인일자 | 2010-03-15 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | - |