특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 멀티톤 블랭크 마스크, 멀티톤 포토 마스크 및 그의 제조방법 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 발명은 하나의 마스크 내에 여러 단계의 투과율을 구현하여 1회의 노광 공정으로 여러 종류의 패턴을 동시에 형성할 수 있는 멀티톤 블랭크마스크 및 멀티톤 포토마스크 제조에 관한 것으로써, 특히 TFT-LCD 등의 디스플레이 장치의 제조공정 및 비용을 대폭 저감할 수 있음. |
| 3. 특허권자 | 주식회사 에스앤에스텍 |
| 4. 특허취득일자 | 2010-04-26 |
| 5. 특허 활용계획 | 본 특허기술을 블랭크마스크 제조에 적용함으로써, 특히 TFT-LCD 제조용 블랭크마스크 제품의 기술경쟁력을 향상시킬 예정임. |
| 6. 확인일자 | 2010-04-26 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | - |