특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 대면적 포토마스크 블랭크, 그 제조방법 및 그것을 이용한 포토마스크 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 발명은 TFT-LCD 등의 디스플레이 제조용 포토마스크 블랭크에 관한 것으로, 기판의 주연부에 차광막 등이 적층되지 않도록 함으로써 파티클 발생을 감소시키고 레지스트막의 균일도가 개선되며 포토마스크의 패턴밀도를 증가시킬 수 있는 대면적 포토마스크 블랭크, 그 제조방법 및 그것을 이용한 포토마스크에 관한 것임. |
| 3. 특허권자 | (주)에스앤에스텍 |
| 4. 특허취득일자 | 2010-08-16 |
| 5. 특허 활용계획 | 본 특허기술이 대만시장에 등록됨으로써 TFT-LCD 등의 디스플레이 제조용 블랭크 마스크 제품의 기술경쟁력을 향상시킬 것으로 전망됨. |
| 6. 확인일자 | 2010-08-16 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | 출원국 : 대만 (TW) |