특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 마스크 블랭크, 마스크 블랭크의 제조방법 및 포토마스크 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 특허는 노광 장치에 별도의 광학필터를 설치할 필요가 없도록 특정 파장의 광을 차단시키는 필터막을 갖는 마스크 블랭크 및 포토마스크를 제공한다. |
| 3. 특허권자 | 주식회사 에스앤에스텍 |
| 4. 특허취득일자 | 2011-04-27 |
| 5. 특허 활용계획 | 본 특허기술을 블랭크 마스크 제조에 적용함으로써 특히, FPD(Flat Panel Display) 제조용 블랭크 마스크 제품의 기술경쟁력을 향상시킬 예정임 |
| 6. 확인일자 | 2011-04-27 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | - |