특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 하프톤형 위상반전 블랭크 마스크 및 그 제조 방법 |
| 2. 특허 주요내용 | 위상반전막의 두께를 저감시킬 수 있는 블랭크 마스크를 제공 |
| 3. 특허권자 | 주식회사 에스앤에스텍 |
| 4. 특허취득일자 | 2012-06-07 |
| 5. 특허 활용계획 | 위상반전 블랭크 마스크 및 포토마스크 특허로서 기술 경쟁력을 향상시킬 수 있음 |
| 6. 확인일자 | 2012-06-07 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | - |
TITAN / 기업 분석COMPANY RESEARCH
(주)에스앤에스텍 특허권 취득(자율공시)
에스앤에스텍 · 2012-06-08 09:44 · KOSCOM