특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 블랭크 마스크 및 블랭크 마스크의 제조방법 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 특허는 투명기판 상에 식각저지막을 적용하여 투명기판의 손상없이 위상반전막 식각이 가능해져 정확한 위상반전을 조절할 수 있으며, 가장자리 부분에서 식각저지막이 언더컷 형상을 가져 위상반전막 패턴 측벽에서의 투과광 강도 감소 없이 위상반전을 극대화할 수 있는 하프톤형 위상반전마스크를 제공한다. |
| 3. 특허권자 | 주식회사 에스앤에스텍 |
| 4. 특허취득일자 | 2013-04-05 |
| 5. 특허 활용계획 | 본 특허기술을 블랭크마스크 및 포토마스크 제조에 적용함으로써, 위상시프트 블랭크마스크 및 포토마스크 제품의 기술경쟁력을 향상시킬 예정임 |
| 6. 확인일자 | 2013-04-05 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | - |