특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 블랭크 마스크 및 이를 이용한 포토마스크 제조 방법 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 특허는 주석(Sn) 및 크롬(Cr)을 포함하는 하드마스크막 및 3성분계로 차광막을 형성하여 미세 패턴의 구현이 가능하고, 얇은 두께를 가짐에도 광학밀도, 내약품성, 결함 리페어 공정마진이 우수한 블랭크 마스크를 제공한다. |
| 3. 특허권자 | 주식회사 에스앤에스텍 |
| 4. 특허취득일자 | 2013-05-24 |
| 5. 특허 활용계획 | 본 특허기술을 블랭크 마스크 및 포토 마스크 제조에 적용함으로써, 블랭크 마스크 및 포토 마스크 제품의 기술경쟁력을 향상시킬 예정임. |
| 6. 확인일자 | 2013-05-24 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | - |