특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 플랫 패널 디스플레이용 위상반전 블랭크 마스크 및 포토마스크 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 특허는 식각 속도가 상이한 2층 이상의 위상반전막을 형성하여 위상반전막의 두께를 줄일 수 있고, 패턴 경계 가 분명하도록 가장자리 부분의 단면 경사를 가파르게 형성하여 미세한 패턴을 갖는 대면적 FPD 제품 제조가 가능한 FPD용 블랭크 마스크 및 포토마스크를 제공한다. |
| 3. 특허권자 | 주식회사 에스앤에스텍 |
| 4. 특허취득일자 | 2013-06-28 |
| 5. 특허 활용계획 | 본 특허기술은 대면적 위상반전 블랭크 마스크 및 포토 마스크 제품에 대한 기술경쟁력 향상 및 회사의 새로운 성장동력이 될 것으로 전망함. |
| 6. 확인일자 | 2013-06-28 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | - |