특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 포토마스크 블랭크 및 포토마스크 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 특허는 대형 위상반전막 특허로서, 금속막, 위상반전막을 동일 계열의 물질을 이용하여 형성 : 금속막의 식각속도를 위상반전막의 식각속도보다 빠르게 하여 한번에 블라인드 영역 및 메인 영역의 위상반전막 및 금속막을 식각하여 패턴을 형성함 |
| 3. 특허권자 | 주식회사 에스앤에스텍 |
| 4. 특허취득일자 | 2013-07-29 |
| 5. 특허 활용계획 | 본 특허기술은 대면적 위상반전 블랭크 마스크 및 포토 마스크 제품에 대한 기술경쟁력 향상 및 회사의 새로운 성장동력이 될 것으로 전망함 |
| 6. 확인일자 | 2013-07-29 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | 본 특허는 해외(일본) 특허등록에 관한 건이며, 확인일자는 현지 특허법률사무소로부터 특허등록증 확인일을 기준으로 하였음. |