특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 대면적 투과제어 블랭크마스크 및 이를 이용한 대면적 투과제어 포토마스크의 제조방법 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 특허는 피사체의 패턴 프로파일이 정밀하게 제어할 수 있도록 식각저지막 및 투과제어막으로 이루어진 반투광부를 형성하여 고해상도의 CD 사이즈를 보다 용이하게 구현할 수 있는 대면적 투과제어 블랭크마스크 및 이를 이용한 대면적 투과제어 포토마스크의 제조방법. |
| 3. 특허권자 | 주식회사 에스앤에스텍 |
| 4. 특허취득일자 | 2013-08-02 |
| 5. 특허 활용계획 | 본 특허기술은 대면적 TM 블랭크 마스크 및 포토 마스크 제품에 대한 기술경쟁력 향상 및 회사의 새로운 성장동력이 될 것으로 전망함 |
| 6. 확인일자 | 2013-08-02 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | - |