특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 블랭크마스크, 포토마스크 및 이의 제조 방법 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 특허는 하드마스크막을 이용하여 Dry Etching 시 Loading effect 감소, 선형성 (Linearity)개선, 식각 선택비(Selectivity)가 개선되고, 금속막의 수직 패턴이 가능하고, 화학증폭형레지스트 패턴이 양호하게 형성되는 블랭크마스크 및 포토마스크의 제조방법. |
| 3. 특허권자 | 주식회사 에스앤에스텍 |
| 4. 특허취득일자 | 2013-08-22 |
| 5. 특허 활용계획 | 본 특허기술을 블랭크마스크 및 포토마스크에 적용함으로써, 블랭크마스크 및 포토마스크 제품의 기술경쟁력을 향상시킬 예정임. |
| 6. 확인일자 | 2013-09-03 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | 본 특허는 해외(대만) 특허등록에 관한 건이며, 특허취득일자는 해외에서 등록료 납부기준일이며, 확인일자는 현지 특허법률사무소로부터 납입을 확인한 날을 기준으로 하였음. |