특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 포토마스크 블랭크, 바이너리 포토마스크 및 위상반전 포토마스크 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 특허는 하나의 포토마스크 블랭크 구조에서 하드 마스크막이 적용된 바이너리 포토마스크 및 위상반전 포토마스크를 동시에 구현할 수 있는 포토마스크 블랭크 를 제공함. |
| 3. 특허권자 | 주식회사 에스앤에스텍 |
| 4. 특허취득일자 | 2013-10-25 |
| 5. 특허 활용계획 | 본 특허기술을 당사 블랭크마스크 제조에 적용함으로써 향후 고부가가치 제품의 기술경쟁력을 향상시킬 예정임. |
| 6. 확인일자 | 2013-10-25 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | - |