신규 시설투자 등
| 1. 투자구분 | 신규시설투자(신규 Precursor공장 및 연구동 등) | |
| 2. 투자내역 | 투자금액(원) | 27,900,000,000 |
| 자기자본(원) | 193,100,371,693 | |
| 자기자본대비(%) | 14.4 | |
| 대규모법인여부 | 미해당 | |
| 3. 투자목적 | - 지속 성장 가능한 신규 사업 Portfolio 필요 - 반도체 기술 변화(미세化,3D化)및 고객사 신규 라인 증설에 따른 전구체 수요 증가 대응 - HCDS 및 HCDS 합성기술 활용 Si base 전구체 국산화 추진 - 고객사 요구 대응 가능한 신규소재 개발 능력 확대 |
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| 4. 투자기간 | 시작일 | 2015-08-06 |
| 종료일 | 2016-12-31 | |
| 5. 이사회결의일(결정일) | 2015-08-06 | |
| -사외이사 참석여부 | 참석(명) | 1 |
| 불참(명) | 0 | |
| 6. 감사(감사위원) 참석여부 | 참석 | |
| 7. 공시유보 관련내용 | 유보사유 | - |
| 유보기한 | - | |
| 8. 기타 투자판단에 참고할 사항 | 1.상기 자기자본은 한국채택국제회계기준(K-IFRS) 에 따라 작성된 최근사업연도말(2014년12월31일) 연결재무제표 기준입니다 2.투자소재지 및 대지면적: 충북 청주시 청원구 오창읍 양청리 655-2 (총대지면적49,587㎡ (15,020평)) 3.상기 신규시설투자를 위하여 지난 2015년4월 투자부지(135억)를 이미 취득해 놓은 상태이며, 기 취득한 토지에 건물등을 신축함에 따라 금번 투자금액에는 토지취득금액은 포함되어 있지 않은 금액입니다. 4.투자기간은 이사회 승인일로부터 준공예정일까지 의 기간입니다. 5.상기 투자내역의 투자금액은 건물(생산,공통) 건설 및 연구동(76억,연구설비 포함), 그리고 유틸리티 비용이 포함되어 있으며,Precursor 설비투자에는 HCDS 합성 및 정제시설과 기타 Precursor를 생산할 수 있는 Future room이포함 되어 있습니다. 6.자금조달의 원천은 내부유보자금과 장기차입금 으로 이루어질 예정입니다. 7.상기 투자금액 및 투자기간은 향후 공사진행 경과 및 경영환경에 따라 변경될 수 있습니다. |
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