특허권 취득(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 합성음의 고조파 성분 제거 방법 및 장치 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 발명은 합성음의 고조파 성분 제거 방법 및 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 합성음에서 고조파 성분을 제거하여 향상된 음질을 제공할 수 있는 합성음의 고조파 성분 제거 방법 및 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 합성음의 고조파 성분 제거 방법은 합성음을 주파수 영역에서의 음성 에너지로 변환하는 단계, 기본 주파수의 크기를 서브주파수 영역의 범위로 설정하여, 음성 에너지를 포함하는 주파수 영역을 복수의 서브 주파수 영역으로 분리하는단계, 서브 주파수 영역 중 합성음의 파형에 영향을 주지 않는 음성 에너지의 고조파 성분을 포함하는 고조파 성분 제거 영역을 추출하는 단계, 고조파 성분 제거 영역에서 고조파 성분의 에너지를 감소시켜 고조파 성분을 제거하는 단계, 및 고조파 성분을 제거한 주파수 영역에서의 음성 에너지를 고조파 성분 제거 합성음으로 변환하는 단계를 포함한다. 본 단계를 통해, 합성음에서 음색에 영향을 주지 않고 고조파 성분을 제거할 수 있는 합성음의 고조파 성분 제거 방법 및 장치를 제공할 수 있는 효과가 있다. |
| 3. 특허권자 | 주식회사 디오텍 |
| 4. 특허취득일자 | 2016-05-26 |
| 5. 특허 활용계획 | 음성 및 음향합성 기술 |
| 6. 확인일자 | 2016-05-26 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | 출원번호: 10-2014-0152832 (특허취득일자 및 확인일자는 특허 수수료 납부일자 임) |