기타 경영사항(특허권 취득)(자율공시)
| 1. 특허명칭 | 미세 패턴 정밀 가공 장치 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 발명은 레이저에 의한 미세 패턴 정밀 가공 장치에 관한 것으로 정밀 패턴 형성이 요구되는 OLED용 마스크 등 디스플레이 부품, 소재, 전자 회로 가공 작업을 수행하는데 사용되는 기술이다. 본 발명은 스캔 렌즈에 의해 발생한 왜곡 수차를 마스크를 통해 제거한 상태로 레이저 빔을 가공 대상 기판에 조사 할 수 있고 이에 따라 스캔 렌즈의 왜곡 수차에 의한 가공 정밀도 저하를 방지하고 더욱 정밀하고 정확하게 레이저 가공을 수행할 수 있는 효과가 있다. |
| 3. 특허권자 | 필옵틱스 |
| 4. 특허취득일자 | 2019-10-16 |
| 5. 특허 활용계획 | 당사의 FMM(Fine Metal Mask) 가공 설비 등에 적용 |
| 6. 확인일자 | 2019-10-16 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | - 상기 특허는 국내특허임 (특허출원번호:10-2017-0154295) - 상기 특허취득일자 및 확인일자는 등록료 납부일임 |